文献
J-GLOBAL ID:201702218719018808
整理番号:17A0055457
新しいリソグラフィー技術のためのUV源の作製:LEDエッチング法の開発【Powered by NICT】
Fabrication of UV sources for novel lithographical techniques: Development of nano-LED etching procedures
著者 (7件):
Moers J.
(Peter Gruenberg Institute, Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany)
,
Mikulics M.
(Peter Gruenberg Institute, Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany)
,
Marso M.
(Faculte ́ des Sciences, de la Technologie et de la Communication, Universite ́ du Luxembourg, L-1359 Luxembourg)
,
Trellenkamp St.
(Peter Gruenberg Institute, Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany)
,
Sofer Z.
(Dept. of Inorganic Chemistry, Institute of Chemical Technology, Prague, Technicka ́ 5, 166 28 Prague 6, Czech Republic)
,
Grutzmacher D.
(Peter Gruenberg Institute, Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany)
,
Hardtdegen H.
(Peter Gruenberg Institute, Forschungszentrum Juelich, 52425 Juelich, Germany)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
ASDAM
ページ:
81-84
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)