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文献
J-GLOBAL ID：201702218869753990
整理番号：17A0366791
抗生物質耐性細菌とその抗生物質耐性遺伝子の除去のためのUV照射下でのH_2O_2および/またはTiO_2光触媒【Powered by NICT】
H2O2 and/or TiO2 photocatalysis under UV irradiation for the removal of antibiotic resistant bacteria and their antibiotic resistance genes
Guo Changsheng
(State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
,
Wang Kai
(State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
,
Wang Kai
(Wuxi SensingNet Industrialization Research Institute, Wuxi 214000, China)
,
Hou Song
(State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
,
Wan Li
(State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
,
Lv Jiapei
(State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
,
Zhang Yuan
(State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
,
Qu Xiaodong
(State Key Laboratory of Simulation and Regulation of Water Cycle in River Basin, and Department of Water Environment, China Institute of Water Resources and Hydropower Research, Beijing 100038, China)
,
Chen Shuyi
(Wuxi SensingNet Industrialization Research Institute, Wuxi 214000, China)
,
Xu Jian
(State Key Laboratory of Environmental Criteria and Risk Assessment, Chinese Research Academy of Environmental Sciences, Beijing 100012, China)
資料名：
Journal of Hazardous Materials
(Journal of Hazardous Materials)
巻： 323 号： PB ページ： 710-718 発行年： 2017年
JST資料番号： B0362A ISSN： 0304-3894 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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