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文献
J-GLOBAL ID：201702218959331864
整理番号：17A1090411
EUVマスク反射率のモンテカルロ感度解析とそのOPC確度への影響
Monte Carlo sensitivity analysis of EUV mask reflectivity and its impact on OPC accuracy
CHEN Yulu
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
WOOD Obert
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
RANKIN Jed
(GLOBALFOUNDRIES, VT)
,
GULLIKSON Eric
(Lawrence Berkeley National Lab, CA)
,
MEYER-ILSE Julia
(Lawrence Berkeley National Lab, CA)
,
SUN Lei
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
QI Zhengqing John
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
GOODWIN Francis
(GLOBALFOUNDRIES, NY)
,
KYE Jongwook
(GLOBALFOUNDRIES, CA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 10143 ページ： 101431S.1-101431S.7 発行年： 2017年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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