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文献
J-GLOBAL ID：201702219160258517
整理番号：17A1383947
アニーリング圧は非晶質SiO_2/Si基板上のコバルトフェライト薄膜におけるイオン移動を誘導する【Powered by NICT】
Annealing pressure induced ions transfer in Cobalt-Ferrite thin films on amorphous SiO2/Si substrates
Huang Shun-Yu
(Department of Physics, National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan)
,
Chong Cheong-Wei
(Department of Physics, National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan)
,
Chen Pin-Hui
(Department of Physics, National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan)
,
Li Hong-Lin
(Department of Physics, National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan)
,
Li Min-Kai
(Department of Physics, National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan)
,
Li Min-Kai
(NSC Instrument Center at NCKU, Tainan 70101, Taiwan)
,
Huang J.C. Andrew
(Department of Physics, National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan)
,
Huang J.C. Andrew
(Advanced Optoelectronic Technology Center (AOTC), National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan)
,
Huang J.C. Andrew
(Taiwan Consortium of Emergent Crystalline Materials, Ministry of Science and Technology, Taipei 106, Taiwan)
資料名：
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
(Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 441 ページ： 537-541 発行年： 2017年
JST資料番号： H0644A ISSN： 0304-8853 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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