文献
J-GLOBAL ID:201702219236663720
整理番号:17A0662641
45°マイクロミラー応用のためのKOH+Triton X-100におけるシリコンの異方性エッチング
Anisotropic etching of silicon in KOH + Triton X-100 for 45° micromirror applications
著者 (2件):
ROLA Krzysztof P.
(Wroclaw Univ. Technol., Wroclaw, POL)
,
ROLA Krzysztof P.
(Inst. Low Temperature and Structure Res., Polish Acad. Sci., Wroclaw, POL)
資料名:
Microsystem Technologies
(Microsystem Technologies)
巻:
23
号:
5
ページ:
1463-1473
発行年:
2017年05月
JST資料番号:
W2056A
ISSN:
0946-7076
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)