文献
J-GLOBAL ID:201702219253767309
整理番号:17A0289825
ロジック7nmノード時代用の電子ビームマスク描画装置EBM-9500
Electron Beam Mask Writer EBM-9500 for Logic 7nm Node Generation
著者 (13件):
MATSUI Hideki
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
KAMIKUBO Takashi
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
NAKAHASHI Satoshi
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
NOMURA Haruyuki
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
NAKAYAMADA Noriaki
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
SUGANUMA Mizuna
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
KATO Yasuo
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
YASHIMA Jun
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
KATSAP Victor
(NuFlare Technol. Inc., NY, USA)
,
SAITO Kenichi
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
KOBAYASHI Ryoei
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
MIYAMOTO Nobuo
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
,
OGASAWARA Munehiro
(NuFlare Technol. Inc., Yokohama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9985
ページ:
998508.1-998508.10
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)