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文献
J-GLOBAL ID:201702219865539764   整理番号:17A0400984

Li_3NbO_4エピタキシャル膜中に埋込まれた低高さ/幅アスペクト比Li_3Ni_2NbO_6ディスクの自己集合【Powered by NICT】

Self-assembly of very-low height/width aspect-ratio Li3Ni2NbO6 disks embedded in Li3NbO4 epitaxial films
著者 (8件):
Kawasoko Hideyuki
(Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan)
Shimizu Ryota
(Department of Chemical Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8550, Japan)
Takagi Yoshitaka
(Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan)
Yamamoto Kuniko
(Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan)
Sugiyama Issei
(Department of Chemical Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8550, Japan)
Shiraki Susumu
(Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan)
Hitosugi Taro
(Advanced Institute for Material Research (AIMR), Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba, Sendai 980-8577, Japan)
Hitosugi Taro
(Department of Chemical Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8550, Japan)

資料名:
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

巻: 621  ページ: 202-206  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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