文献
J-GLOBAL ID:201702220061705745
整理番号:17A0289837
マルチビームリソグラフィーを用いた先端技術設計のマスク製造 (第二部)
Mask Manufacturing of Advanced Technology Designs using Multi-Beam Lithography (Part 2)
著者 (13件):
GREEN Michael
(Photronics, Inc, Idaho)
,
HAM Young
(Photronics, Inc, Idaho)
,
DILLON Brian
(Photronics, Inc, Idaho)
,
KASPROWICZ Bryan
(Photronics, Inc, Idaho)
,
HUR Ik Boum
(Photronics, Inc, Idaho)
,
PARK Joong Hee
(Photronics, Inc, Idaho)
,
CHOI Yohan
(Photronics, Inc, Idaho)
,
MCMURRAN Jeff
(Photronics, Inc, Idaho)
,
KAMBERIAN Henry
(Photronics, Inc, Idaho)
,
CHALOM Daniel
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
,
KLIKOVITS Jan
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
,
JURKOVIC Michal
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
,
HUDEK Peter
(IMS Nanofabrication AG, Vienna, AUT)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9985
ページ:
99850R.1-99850R.11
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)