文献
J-GLOBAL ID:201702220080864305
整理番号:17A0369657
CuAlO_薄膜の抵抗スイッチング挙動に及ぼす酸素空格子点と膜結晶化の影響【Powered by NICT】
Oxygen vacancy and film crystallization effects on resistive switching behaviors of CuAlO thin films
著者 (3件):
Lin Yow-Jon
(Institute of Photonics, National Changhua University of Education, Changhua 500, Taiwan)
,
Lin Yow-Jon
(Frontier Photonics Research Center, National Changhua University of Education, Changhua 500, Taiwan)
,
Chu Yu-Ju
(Institute of Photonics, National Changhua University of Education, Changhua 500, Taiwan)
資料名:
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻:
691
ページ:
263-268
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0083A
ISSN:
0925-8388
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)