文献
J-GLOBAL ID:201702220810272099
整理番号:17A0289859
ポスト露光焼き効果によるライン/スペースパターンにおけるサイドエラーへのCDサイドの研究
The Study of CD Side to Side Error in Line/Space Pattern Caused by Post-Exposure Bake Effect
著者 (8件):
HUANG Jin
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
GUO Eric
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
GE Haiming
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
LU Max
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
WU Yijun
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
TIAN Mingjing
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
YAN Shichuan
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
WANG Ran
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9985
ページ:
99851N.1-99851N.8
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)