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文献
J-GLOBAL ID：201702220810272099
整理番号：17A0289859
ポスト露光焼き効果によるライン/スペースパターンにおけるサイドエラーへのCDサイドの研究
The Study of CD Side to Side Error in Line/Space Pattern Caused by Post-Exposure Bake Effect
HUANG Jin
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
GUO Eric
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
GE Haiming
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
LU Max
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
WU Yijun
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
TIAN Mingjing
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
YAN Shichuan
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
,
WANG Ran
(Semiconductor Manufacturing International Corp., Shanghai, CHN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 9985 ページ： 99851N.1-99851N.8 発行年： 2016年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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