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文献
J-GLOBAL ID：201702221036772157
整理番号：17A0865326
電子ビームリソグラフィにおけるナノパターン形成の多重物理シミュレーション
Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography
Yasuda Masaaki
(Department of Physics and Electronics, Osaka Prefecture University)
,
Tada Kazuhiro
(Department of Electrical and Control Systems Engineering,National Institute of Technology, Toyama College)
,
Kotera Masatoshi
(Department of Electronics, Information and Communication Engineering,Osaka Institute of Technology)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 29 号： 5 ページ： 725-730(J-STAGE) 発行年： 2016年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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