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文献
J-GLOBAL ID：201702221249682093
整理番号：17A0884222
擬3次元微細構造のための反応拡散媒介フォトリソグラフィー【Powered by NICT】
Reaction-Diffusion-Mediated Photolithography for Designing Pseudo-3D Microstructures
Kim Ju Hyeon
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering (BK21+ Program), KAIST, Daejeon, 305-701, Korea)
,
Je Kwanghwi
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering (BK21+ Program), KAIST, Daejeon, 305-701, Korea)
,
Shim Tae Soup
(Department of Chemical Engineering and Department of Energy System Research, Ajou University, Suwon, 16499, Republic of Korea)
,
Kim Shin-Hyun
(Department of Chemical and Biomolecular Engineering (BK21+ Program), KAIST, Daejeon, 305-701, Korea)
資料名：
Small
(Small)
巻： 13 号： 17 ページ： ROMBUNNO.201603516 発行年： 2017年
JST資料番号： W2348A ISSN： 1613-6810 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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