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文献
J-GLOBAL ID：201702221874402827
整理番号：17A0633156
高出力インパルスマグネトロンスパッタリングを使用したアモルファス酸化亜鉛スズの共蒸着 評価とドーピング
Codeposition of amorphous zinc tin oxide using high power impulse magnetron sputtering: characterisation and doping
TRAN H N
(RMIT Univ., VIC, AUS)
,
MAYES E L H
(RMIT Microscopy and Microanalysis Facility (RMMF), VIC, AUS)
,
MURDOCH B J
(Newcastle Univ., Newcastle upon Tyne, GBR)
,
MCCULLOCH D G
(RMIT Univ., VIC, AUS)
,
MCKENZIE D R
(Univ. Sydney, New South Wales, AUS)
,
BILEK M M M
(Univ. Sydney, New South Wales, AUS)
,
HOLLAND A S
(RMIT Univ., VIC, AUS)
,
PARTRIDGE J G
(RMIT Univ., VIC, AUS)
資料名：
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻： 32 号： 4 ページ： 045013,1-6 発行年： 2017年04月
JST資料番号： E0503B ISSN： 0268-1242 CODEN： SSTEET 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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