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文献
J-GLOBAL ID:201702222409906206   整理番号:17A0900435

PECVD成長シリコンナノワイヤの特性に及ぼすインジウム触媒厚みの影響に関する研究

Study of indium catalyst thickness effect on PECVD-grown silicon nanowires properties
著者 (5件):
YAACOUBI TABASSI M.
(Centre for Res. and Technol. Energy, Hammam-Lif, TUN)
BENABDERRAHMANE ZAGHOUANI R.
(Centre for Res. and Technol. Energy, Hammam-Lif, TUN)
KHELIL M.
(Univ. Gabes, Gabes, TUN)
KHIROUNI K.
(Univ. Gabes, Gabes, TUN)
DIMASSI W.
(Centre for Res. and Technol. Energy, Hammam-Lif, TUN)

資料名:
Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)

巻: 28  号: 13  ページ: 9717-9723  発行年: 2017年07月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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