文献
J-GLOBAL ID:201702222936484040
整理番号:17A0289857
アクリルポリマーをベースにした非化学的増幅電子ビームレジストのサブ20nm密度パターンの作製プロセスの研究
Investigation of fabrication process for sub 20-nm dense pattern of non-chemically amplified electron beam resist based on acrylic polymers
著者 (7件):
OCHIAI Shunsuke
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
TAKAYAMA Tomohiro
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
KISHIMURA Yukiko
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
ASADA Hironori
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
SONODA Manae
(National Inst. Technol., Miyakonojo, JPN)
,
IWAKUMA Minako
(National Inst. Technol., Miyakonojo, JPN)
,
HOSHINO Ryoichi
(LLC Gluon Lab, Ube, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9985
ページ:
99851L.1-99851L.7
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)