文献
J-GLOBAL ID:201702223338807028
整理番号:17A0551810
プレパターン加工されたアモルファスシリコンの変換による二次元WS2ナノリボン堆積
Two-dimensional WS2 nanoribbon deposition by conversion of pre-patterned amorphous silicon
著者 (12件):
HEYNE Markus H
(KU Leuven, Leuven, BEL)
,
HEYNE Markus H
(Univ. Antwerp, Antwerpen-Wilrijk, BEL)
,
HEYNE Markus H
(imec, Leuven, BEL)
,
DE MARNEFFE Jean-Francois
(imec, Leuven, BEL)
,
DELABIE Annelies
(KU Leuven, Leuven, BEL)
,
DELABIE Annelies
(imec, Leuven, BEL)
,
CAYMAX Matty
(imec, Leuven, BEL)
,
NEYTS Erik C
(Univ. Antwerp, Antwerpen-Wilrijk, BEL)
,
RADU Iuliana
(imec, Leuven, BEL)
,
HUYGHEBAERT Cedric
(imec, Leuven, BEL)
,
DE GENDT Stefan
(KU Leuven, Leuven, BEL)
,
DE GENDT Stefan
(imec, Leuven, BEL)
資料名:
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻:
28
号:
4
ページ:
04LT01,1-5
発行年:
2017年01月27日
JST資料番号:
W0108A
ISSN:
0957-4484
CODEN:
NNOTER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)