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文献
J-GLOBAL ID：201702223690582837
整理番号：17A0544831
集束イオンビームリソグラフィにおけるプラズマ支援原子層堆積による二酸化ケイ素マスク
Silicon dioxide mask by plasma enhanced atomic layer deposition in focused ion beam lithography
LIU Zhengjun
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
,
SHAH Ali
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
,
ALASAARELA Tapani
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
,
ALASAARELA Tapani
(Nanobakers Oy, Helsinki, FIN)
,
CHEKUROV Nikolai
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
,
CHEKUROV Nikolai
(Oxford Instruments Analytical Oy, Espoo, FIN)
,
SAVIN Hele
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
,
TITTONEN Ilkka
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
資料名：
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻： 28 号： 8 ページ： 085303,1-7 発行年： 2017年02月24日
JST資料番号： W0108A ISSN： 0957-4484 CODEN： NNOTER 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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