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文献
J-GLOBAL ID：201702223714820827
整理番号：17A0469392
Si(100)表面上に電着したNi膜の核形成と成長の速度論【Powered by NICT】
Nucleation and growth kinetics of electrodeposited Ni films on Si(100) surfaces
Philipsen Harold
(IMEC, Kapeldreef 75, 3001, Leuven, Belgium)
,
Jehoul Hannes
(IMEC, Kapeldreef 75, 3001, Leuven, Belgium)
,
Jehoul Hannes
(Katholieke Universiteit Leuven-Campus De Nayer, Jan De Nayerlaan 5, 2860, Sint-Katelijne-Waver, Belgium)
,
Inoue Fumihiro
(IMEC, Kapeldreef 75, 3001, Leuven, Belgium)
,
Vandersmissen Kevin
(IMEC, Kapeldreef 75, 3001, Leuven, Belgium)
,
Yang Liu
(IMEC, Kapeldreef 75, 3001, Leuven, Belgium)
,
Struyf Herbert
(IMEC, Kapeldreef 75, 3001, Leuven, Belgium)
,
van Dorp Dennis
(IMEC, Kapeldreef 75, 3001, Leuven, Belgium)
資料名：
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻： 230 ページ： 407-417 発行年： 2017年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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