文献
J-GLOBAL ID:201702223851689122
整理番号:17A1501773
銀援助無電解エッチング中のけい素ナノワイヤのオキシダント濃度,形態学的側面とエッチング速度の間の相関【Powered by NICT】
Correlation between oxidant concentrations, morphological aspects and etching kinetics of silicon nanowires during silver-assist electroless etching
著者 (3件):
Moumni Besma
(Photovoltaic Laboratory, Research and Technology Centre of Energy (CRTEn), Borj Cedria Technopark, PB 95 Hammam Lif 2050, Tunisia)
,
Jaballah Abdelkader Ben
(Photovoltaic Laboratory, Research and Technology Centre of Energy (CRTEn), Borj Cedria Technopark, PB 95 Hammam Lif 2050, Tunisia)
,
Jaballah Abdelkader Ben
(Department of Physics, Faculty of Science and Arts in Samtha, Jazan University, Jazan, Saudi Arabia)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
425
ページ:
1-7
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)