文献
J-GLOBAL ID:201702224207040718
整理番号:17A0226347
グラフェンとa-SiO2の間の超強接着の力学的成因:van der Waalsを越える
Mechanistic Origin of the Ultrastrong Adhesion between Graphene and a-SiO2: Beyond van der Waals
著者 (3件):
KUMAR Sandeep
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
,
PARKS David
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
,
KAMRIN Ken
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts, USA)
資料名:
ACS Nano
(ACS Nano)
巻:
10
号:
7
ページ:
6552-6562
発行年:
2016年07月
JST資料番号:
W2326A
ISSN:
1936-0851
CODEN:
ANCAC3
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)