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文献
J-GLOBAL ID：201702224978662302
整理番号：17A1020097
βFeSi_2エピタキシャル膜の電気伝導特性に及ぼす微細構造の影響【Powered by NICT】
Effect of microstructures on electrical conduction properties of β-FeSi2 epitaxial films
Akiyama Kensuke
(Kanagawa Industrial Technology Center, 705-1 Shimoimaizumi, Ebina, Kanagawa 243-0435, Japan)
,
Akiyama Kensuke
(School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama 228-8505, Japan)
,
Kadowaki Teiko
(Kanagawa Industrial Technology Center, 705-1 Shimoimaizumi, Ebina, Kanagawa 243-0435, Japan)
,
Hirabayashi Yasuo
(Kanagawa Industrial Technology Center, 705-1 Shimoimaizumi, Ebina, Kanagawa 243-0435, Japan)
,
Funakubo Hiroshi
(School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama 228-8505, Japan)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 468 ページ： 744-748 発行年： 2017年
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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