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文献
J-GLOBAL ID：201702225323318243
整理番号：17A0402880
10nmの各厚さの4対ポリSi/SiO_2多重スタックのレーザ支援原子プローブトモグラフィー【Powered by NICT】
Laser-assisted atom probe tomography of four paired poly-Si/SiO2 multiple-stacks with each thickness of 10nm
Kwak C.-M.
(Department of Materials Engineering, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, South Korea)
,
Seol J.-B.
(National Institute for Nanomaterials Technology (NINT), POSTECH, Pohang 790-784, South Korea)
,
Kim Y.-T.
(Department of Materials Engineering, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, South Korea)
,
Park C.-G.
(Department of Materials Engineering, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), Pohang 790-784, South Korea)
,
Park C.-G.
(National Institute for Nanomaterials Technology (NINT), POSTECH, Pohang 790-784, South Korea)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 396 ページ： 497-503 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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