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文献
J-GLOBAL ID：201702225747956136
整理番号：17A0754744
沈降とプラズマスパッタリングにより作製したWO_3薄膜【Powered by NICT】
WO3 thin films prepared by sedimentation and plasma sputtering
Olejnicek Jiri
(Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 14800 Prague, Czech Republic)
,
Brunclikova Michaela
(Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 14800 Prague, Czech Republic)
,
Kment Stepan
(Palacky University, RCPTM, Joint Laboratory of Optics, 17. listopadu 12, 77146 Olomouc, Czech Republic)
,
Hubicka Zdenek
(Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 14800 Prague, Czech Republic)
,
Kmentova Hana
(Palacky University, RCPTM, Joint Laboratory of Optics, 17. listopadu 12, 77146 Olomouc, Czech Republic)
,
Ksirova Petra
(Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 14800 Prague, Czech Republic)
,
Cada Martin
(Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Na Slovance 2, 14800 Prague, Czech Republic)
,
Zlamal Martin
(Department of Inorganic Technology, University of Chemical Technology Prague, Technicka 5, 16628 Prague, Czech Republic)
,
Krysa Josef
(Department of Inorganic Technology, University of Chemical Technology Prague, Technicka 5, 16628 Prague, Czech Republic)
資料名：
Chemical Engineering Journal
(Chemical Engineering Journal)
巻： 318 ページ： 281-288 発行年： 2017年
JST資料番号： D0723A ISSN： 1385-8947 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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