文献
J-GLOBAL ID:201702226359039441
整理番号:17A0470303
原子水素アニーリングを用いたグラフェン酸化膜還元【Powered by NICT】
Graphene oxide film reduction using atomic hydrogen annealing
著者 (2件):
Heya Akira
(Department of Materials and Synchrotron Radiation Engineering, University of Hyogo, 2167, Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan)
,
Matsuo Naoto
(Department of Materials and Synchrotron Radiation Engineering, University of Hyogo, 2167, Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
625
ページ:
93-99
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)