前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：201702226425145530
整理番号：17A0463097
マスクアライナ応用のためのe-ビームリソグラフィーによる先端フォトマスク作製
Advanced photomask fabrication by e-beam lithography for mask aligner applications
WEICHELT T.
(Friedrich Schiller Univ. Jena, Jena, DEU)
,
BOURGIN Y.
(Friedrich Schiller Univ. Jena, Jena, DEU)
,
BANASCH M.
(Vistec Electron Beam GmbH, Jena, DEU)
,
ZEITNER U. D.
(Friedrich Schiller Univ. Jena, Jena, DEU)
,
ZEITNER U. D.
(Fraunhofer Inst. Applied Optics and Precision Engineering, Jena, DEU)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 10032 ページ： 1003204.1-1003204.5 発行年： 2016年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。