文献
J-GLOBAL ID:201702226436159451
整理番号:17A0289848
ラスタ走査マルチビームマスクリソグラフィのためのソフトウェアベースのデータ
Software-based Data Path for Raster-scanned Multi-beam Mask Lithography
著者 (6件):
RAJAGOPALAN Archana
(Mentor Graphics India Pvt. Ltd., Bangalore, IND)
,
AGARWAL Ankita
(Mentor Graphics India Pvt. Ltd., Bangalore, IND)
,
BUCK Peter
(Mentor Graphics Corp., OR, USA)
,
GELLER Paul
(Applied Materials Inc., OR)
,
HAMAKER H.Christopher
(Applied Materials Inc., OR)
,
RAO Nageswara
(Mentor Graphics India Pvt. Ltd., Bangalore, IND)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9985
ページ:
998519.1-998519.9
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)