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文献
J-GLOBAL ID：201702226818401321
整理番号：17A0204241
ポスト-CMP洗浄に及ぼすベンゾトリアゾール除去のためのキレート剤と非イオン界面活性剤の相乗効果【Powered by NICT】
Synergetic effect of chelating agent and nonionic surfactant for benzotriazole removal on post Cu-CMP cleaning
Li Yanlei
(School of Electronic and Information Engineering, Hebei University of Technology)
,
Liu Yuling
(School of Electronic and Information Engineering, Hebei University of Technology)
,
Wang Chenwei
(School of Electronic and Information Engineering, Hebei University of Technology)
,
Li Yue
(School of Electronic and Information Engineering, Hebei University of Technology)
資料名：
Journal of Semiconductors
(Journal of Semiconductors)
巻： 37 号： 8 ページ： 086001-1-086001-6 発行年： 2016年
JST資料番号： C2377A ISSN： 1674-4926 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 中国 (CHN) 言語： 英語 (EN)
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