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文献
J-GLOBAL ID:201702228371506116   整理番号:17A0776053

Raman分光法と高分解能XRDによる4H-SiC及びサファイア上に成長させたGaNの特性評価【Powered by NICT】

Characterization of GaN grown on 4H-SiC and sapphire by Raman spectroscopy and high resolution XRD
著者 (7件):
Duan Huantao
(Xidian University)
Gu Wenping
(Xidian University)
Zhang Jincheng
(Xidian University)
Hao Yue
(Xidian University)
Chen Chi
(Xidian University)
Ni Jinyu
(Xidian University)
Xu Shengrui
(Xidian University)

資料名:
Journal of Semiconductors  (Journal of Semiconductors)

巻: 30  号:ページ: 22-26  発行年: 2009年 
JST資料番号: C2377A  ISSN: 1674-4926  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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