文献
J-GLOBAL ID:201702229398379972
整理番号:17A1088556
メモリデバイスのHVM用ナノインプリントリソグラフィ(NIL)の研究
Study of Nanoimprint Lithography (NIL) for HVM of memory devices
著者 (10件):
KONO Takuya
(Toshiba Corp., Kanagawa-ken, JPN)
,
HATANO Masayuki
(Toshiba Corp., Kanagawa-ken, JPN)
,
TOKUE Hiroshi
,
KOBAYASHI Kei
,
SUZUKI Masato
,
FUKUHARA Kazuya
,
ASANO Masafumi
,
NAKASUGI Tetsuro
,
CHOI Eun Hyuk
(SK Hynix Inc., Gyeonggi-do, KOR)
,
JUNG Wooyung
(SK Hynix Inc., Gyeonggi-do, KOR)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10144
ページ:
1014406.1-1014406.7
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)