文献
J-GLOBAL ID:201702229760406228
整理番号:17A1033154
平面サブミクロン技術ノードにおけるSERスケーリングと傾向【Powered by NICT】
SER scaling and trends in planar submicron technology nodes
著者 (1件):
Chavali Krishna Mohan
(Quality Reliability Engineering, GLOBALFOUNDRIES Inc., Malta, New York, USA)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
EDTM
ページ:
206-208
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)