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文献
J-GLOBAL ID：201702229900821254
整理番号：17A0361456
ホットワイヤ化学蒸着中のシリコン薄膜の非古典的結晶化【Powered by NICT】
Non-classical crystallization of silicon thin films during hot wire chemical vapor deposition
Jung Jae-Soo
(Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University, 1 Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul 151-742, Republic of Korea)
,
Lee Sang-Hoon
(LCD Yield Enhancement Team, Samsung Display, Bunyoung-ro 465, Subuk-gu, Chunan, Chungchungnamdo 331-710, Republic of Korea)
,
Kim Da-Seul
(Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University, 1 Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul 151-742, Republic of Korea)
,
Kim Kun-Su
(Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University, 1 Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul 151-742, Republic of Korea)
,
Park Soon-Won
(Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University, 1 Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul 151-742, Republic of Korea)
,
Hwang Nong-Moon
(Department of Materials Science and Engineering, Seoul National University, 1 Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul 151-742, Republic of Korea)
,
Hwang Nong-Moon
(Research Institute of Advanced Materials, Seoul National University, 1 Gwanak-ro, Gwanak-gu, Seoul 151-742, Republic of Korea)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 458 ページ： 8-15 発行年： 2017年
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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