文献
J-GLOBAL ID:201702230306361874
整理番号:17A1088329
原子層堆積法による酸化物系材料
Oxide-based Materials by Atomic Layer Deposition
著者 (10件):
GODLEWSKI Marek
(Inst. Physics, Polish Acad. Sci., Warsaw, POL)
,
GODLEWSKI Marek
(Cardinal S. Wyszynski Univ., Warsaw, POL)
,
PIETRUSZKA Rafal
(Inst. Physics, Polish Acad. Sci., Warsaw, POL)
,
KASZEWSKI Jaroslaw
(Inst. Physics, Polish Acad. Sci., Warsaw, POL)
,
WITKOWSKI Bartlomiej S.
(Inst. Physics, Polish Acad. Sci., Warsaw, POL)
,
GIERALTOWSKA Sylwia
(Inst. Physics, Polish Acad. Sci., Warsaw, POL)
,
WACHNICKI Lukasz
(Inst. Physics, Polish Acad. Sci., Warsaw, POL)
,
GODLEWSKI Michal M.
(Warsaw Univ. Life Sci., Warsaw, POL)
,
SLONSKA Anna
(Warsaw Univ. Life Sci., Warsaw, POL)
,
GAJEWSKI Zdzislaw
(Warsaw Univ. Life Sci., Warsaw, POL)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10105
ページ:
101050L.1-101050L.9
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)