文献
J-GLOBAL ID:201702230417298831
整理番号:17A1501719
単層グラフェンにおける光励起キャリアの初期緩和段階に及ぼす基板の影響【Powered by NICT】
Substrate influence on the early relaxation stages of photoexcited carriers in monolayer graphene
著者 (4件):
Iglesias J.M.
(Applied Physics Department, University of Salamanca, Salamanca 37008, Spain)
,
Martin M.J.
(Applied Physics Department, University of Salamanca, Salamanca 37008, Spain)
,
Pascual E.
(Applied Physics Department, University of Salamanca, Salamanca 37008, Spain)
,
Rengel R.
(Applied Physics Department, University of Salamanca, Salamanca 37008, Spain)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
424
号:
P1
ページ:
52-57
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)