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文献
J-GLOBAL ID：201702230455648631
整理番号：17A1092110
ホットワイヤ表面上に生成したH原子によるフォトレジスト重合体の分解過程【Powered by NICT】
Decomposition processes of photoresist polymers by H atoms produced on hot wire surfaces
Umemoto Hironobu
(Department of Engineering, Graduate School of Integrated Science and Technology, Shizuoka University, Hamamatsu, Shizuoka 432-8561, Japan)
,
Umemoto Hironobu
(Department of Applied Chemistry and Biochemical Engineering, Faculty of Engineering, Shizuoka University, Hamamatsu, Shizuoka 432-8561, Japan)
,
Kato Teruto
(Department of Applied Chemistry and Biochemical Engineering, Faculty of Engineering, Shizuoka University, Hamamatsu, Shizuoka 432-8561, Japan)
,
Takiguchi Masayuki
(Department of Applied Chemistry and Biochemical Engineering, Faculty of Engineering, Shizuoka University, Hamamatsu, Shizuoka 432-8561, Japan)
,
Takagi Seiji
(Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University, 3-3-138, Sugimoto, Sumiyoshi, Osaka 558-8585, Japan)
,
Horibe Hideo
(Department of Applied Chemistry and Bioengineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University, 3-3-138, Sugimoto, Sumiyoshi, Osaka 558-8585, Japan)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 635 ページ： 27-31 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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