文献
J-GLOBAL ID:201702231848738978
整理番号:17A0527107
ガラスの中のマイクロ流体システムの迅速製作のためのフォトグラフィー無レーザパターンフッ化水素酸耐酸性クロムポリイミドマスク
Photolithography-free laser-patterned HF acid-resistant chromium-polyimide mask for rapid fabrication of microfluidic systems in glass
著者 (3件):
ZAMURUYEV Konstantin O
(Univ. California, CA, USA)
,
ZRODNIKOV Yuriy
(Univ. California, CA, USA)
,
DAVIS Cristina E
(Univ. California, CA, USA)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
27
号:
1
ページ:
015010,1-10
発行年:
2017年01月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)