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文献
J-GLOBAL ID：201702231907456197
整理番号：17A0637799
自立SiGeナノコラムに埋込んだSiナノクラスタのスピン緩和
Spin relaxation in Si nanoclusters embedded in free-standing SiGe nanocolumns
Stepina N. P.
(Institute of Semiconductor Physics, 630090 Novosibirsk, Russia)
,
Zinovieva A. F.
(Institute of Semiconductor Physics, 630090 Novosibirsk, Russia)
,
Dvurechenskii A. V.
(Institute of Semiconductor Physics, 630090 Novosibirsk, Russia)
,
Noda Shuichi
(Institute of Fluid Science, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan)
,
Molla Md. Zaman
(Institute of Fluid Science, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan)
,
Samukawa Seiji
(Institute of Fluid Science, Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 110 号： 20 ページ： 203103-203103-4 発行年： 2017年05月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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