文献
J-GLOBAL ID:201702232022006605
整理番号:17A1607834
光化学と放射線化学の交差点 紫外線放射に曝露された希薄水溶液中におけるヒドロキシルラジカル生成【Powered by NICT】
At the crossroad of photochemistry and radiation chemistry: formation of hydroxyl radicals in diluted aqueous solutions exposed to ultraviolet radiation
著者 (6件):
Tomanova Katerina
(Czech Technical University in Prague, Faculty of Nuclear Sciences and Physical Engineering, Brehova 7, 115 19 Prague 1, Czech Republic. vaclav.cuba@fjfi.cvut.cz)
,
Precek Martin
,
Mucka Viliam
,
Vysin Ludek
,
Juha Libor
,
Cuba Vaclav
資料名:
Physical Chemistry Chemical Physics
(Physical Chemistry Chemical Physics)
巻:
19
号:
43
ページ:
29402-29408
発行年:
2017年
JST資料番号:
A0271C
ISSN:
1463-9076
CODEN:
PPCPFQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)