前のページに戻る この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写(冊子体のコピー)をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID:201702233253500606   整理番号:17A0402802

表面処理により改質されたInGaAs/GaAs金属-酸化物-半導体ヘテロ構造電界効果トランジスタの特性【Powered by NICT】

Properties of InGaAs/GaAs metal-oxide-semiconductor heterostructure field-effect transistors modified by surface treatment
著者 (9件):
Gregusova D.
(Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska cesta 9, Bratislava SK-84104, Slovakia)
Gucmann F.
(Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska cesta 9, Bratislava SK-84104, Slovakia)
Kudela R.
(Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska cesta 9, Bratislava SK-84104, Slovakia)
Micusik M.
(Polymer Institute of Slovak Academy of Sciences, Dubravska cesta 9, Bratislava SK-84541, Slovakia)
Stoklas R.
(Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska cesta 9, Bratislava SK-84104, Slovakia)
Valik L.
(Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska cesta 9, Bratislava SK-84104, Slovakia)
Gregus J.
(Faculty of Mathematics, Physics and Informatics, Comenius University, Mlynska dolina, Bratislava SK-84248, Slovakia)
Blaho M.
(Institute of Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Dubravska cesta 9, Bratislava SK-84104, Slovakia)
Kordos P.
(Institute of Electronics and Photonics, Faculty of Electrical Engineering and Information Technology STU, Ilkovicova 3, Bratislava SK-81219, Slovakia)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 395  ページ: 140-144  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写(コピー)して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写(コピー)は郵送またはFAXでお送りします

※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。