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文献
J-GLOBAL ID：201702233428750943
整理番号：17A1093582
堆積したままの非化学量論的NiO薄膜のDC反応性マグネトロンスパッタリングの酸素比制御の影響【Powered by NICT】
The effect of the oxygen ratio control of DC reactive magnetron sputtering on as-deposited non stoichiometric NiO thin films
Wang Mengying
(School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing, 100191, China)
,
Thimont Yohann
(CIRIMAT, Universite de Toulouse, CNRS, INPT, UPS, Universite Toulouse 3 Paul Sabatier, 118 route de Narbonne 31062, Toulouse Cedex 9, France)
,
Presmanes Lionel
(CIRIMAT, Universite de Toulouse, CNRS, INPT, UPS, Universite Toulouse 3 Paul Sabatier, 118 route de Narbonne 31062, Toulouse Cedex 9, France)
,
Diao Xungang
(School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing, 100191, China)
,
Barnabe Antoine
(CIRIMAT, Universite de Toulouse, CNRS, INPT, UPS, Universite Toulouse 3 Paul Sabatier, 118 route de Narbonne 31062, Toulouse Cedex 9, France)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 419 ページ： 795-801 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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