文献
J-GLOBAL ID:201702233443544343
整理番号:17A1299954
ポリシロキサン系トリブロックコポリマーの合成とモルフォロジー研究
Synthesis and Morphology Study of Polysiloxane-based Triblock Copolymers
著者 (4件):
DONG Lei
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
ODASHIMA Rin
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
SESHIMO Takehiro
(Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
HAYAKAWA Teruaki
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
高分子学会予稿集(CD-ROM)
(高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻:
66
号:
2
ページ:
ROMBUNNO.2ESA05
発行年:
2017年09月06日
JST資料番号:
Z0703C
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)