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文献
J-GLOBAL ID：201702233528083109
整理番号：17A0158517
マグネトロンスパッタリングにより堆積したW-TI薄膜の構造と特性を調べた。【JST・京大機械翻訳】
Structure and properties of W-Ti thin films deposited by magnetron sputtering
Sun Guoqi
(School of Materials Science and Engineering,Kunming University of Science and Technology)
,
Sun Yong
(School of Materials Science and Engineering,Kunming University of Science and Technology)
,
Guo Zhongzheng
(School of Materials Science and Engineering,Kunming University of Science and Technology)
,
Duan Yonghua
(School of Materials Science and Engineering,Kunming University of Science and Technology)
資料名：
Jinshu Rechuli
(Jinshu Rechuli)
巻： 41 号： 10 ページ： 90-94 発行年： 2016年
JST資料番号： C2061A ISSN： 0254-6051 CODEN： JRECDB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 中国 (CHN) 言語： 中国語 (ZH)
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