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文献
J-GLOBAL ID：201702233811714346
整理番号：17A1738118
UV硬化とIR熱処理を用いたポリシラザン前駆体由来の窒化ケイ素厚膜の形態制御
Morphology control of a silicon nitride thick film derived from polysilazane precursor using UV curing and IR heat treatment
PARK Cheong Ho
(Gyeongsang National Univ., Gyeongsangnam-do, KOR)
,
JOO Young Jun
(Gyeongsang National Univ., Gyeongsangnam-do, KOR)
,
CHUNG Jun Ki
(Gangwon Sci. & Technol. Promotion Center, Gangwon-do, KOR)
,
HAN Young Hwan
(Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN)
,
KIM Cheol Jin
(Gyeongsang National Univ., Gyeongsangnam-do, KOR)
資料名：
Advances in Applied Ceramics
(Advances in Applied Ceramics)
巻： 116 号： 7/8 ページ： 376-382 発行年： 2017年11月
JST資料番号： E0272A ISSN： 1743-6753 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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