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文献
J-GLOBAL ID：201702233917087744
整理番号：17A0618909
X線吸収微細構造分光法によるナノ多孔質シリコンのZn電析促進
Acceleration of Zn electrodeposition in nanoporous silicon studied by X-ray absorption fine structure spectroscopy
MUNOZ-NOVAL Alvaro
(Hiroshima Univ.)
,
FUKAMI Kazuhiro
(Kyoto Univ.)
,
KOYAMA Akira
(Kyoto Univ.)
,
KURUMA Takuya
(Hiroshima Univ.)
,
KITADA Atsushi
(Kyoto Univ.)
,
MURASE Kuniaki
(Kyoto Univ.)
,
ABE Takeshi
(Kyoto Univ.)
,
SAKKA Tetsuo
(Kyoto Univ.)
,
HAYAKAWA Shinjiro
(Hiroshima Univ.)
資料名：
電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 84th ページ： ROMBUNNO.1F22 発行年： 2017年03月17日
JST資料番号： Y0048B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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