文献
J-GLOBAL ID:201702234715990185
整理番号:17A0945926
有機還元剤を利用した金属Cu薄膜の直接原子層蒸着のための効率的なプロセス
Efficient Process for Direct Atomic Layer Deposition of Metallic Cu Thin Films Based on an Organic Reductant
著者 (2件):
TRIPATHI Tripurari S.
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
,
KARPPINEN Maarit
(Aalto Univ., Aalto, FIN)
資料名:
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻:
29
号:
3
ページ:
1230-1235
発行年:
2017年02月14日
JST資料番号:
T0893A
ISSN:
0897-4756
CODEN:
CMATEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)