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文献
J-GLOBAL ID：201702235185030644
整理番号：17A0463108
SCILナノインプリント解決法:ウエハスケールサブ10nm分解能のための高容量ソフトNIL
SCIL Nanoimprint Solutions; high volume soft NIL for wafer scale sub-10nm resolution
VOORKAMP R.
(Philips Group Innovation, Eindhoven, NLD)
,
VERSCHUUREN M. A.
(Philips Group Innovation, Eindhoven, NLD)
,
VAN BRAKEL R.
(Philips Group Innovation, Eindhoven, NLD)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 10032 ページ： 100320F.1-100320F.4 発行年： 2016年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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