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文献
J-GLOBAL ID：201702235235226589
整理番号：17A0443962
構造,反応性同時スパッタしたNi-TiNナノ複合材料薄膜の応力と性質に及ぼす基板温度とアニーリングの影響【Powered by NICT】
Effect of substrate temperature and annealing on structure, stress and properties of reactively co-sputtered Ni-TiN nanocomposite thin films
Kumar Mukesh
(Department of Metallurgical and Materials Engineering, Indian Institute of Technology, Kharagpur 721302, West Bengal, India)
,
Mitra R.
(Department of Metallurgical and Materials Engineering, Indian Institute of Technology, Kharagpur 721302, West Bengal, India)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 624 ページ： 70-82 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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