文献
J-GLOBAL ID:201702236196467321
整理番号:17A1258273
ひ素をドープしたゾル-ゲル被覆(SGC)とフラッシュランプアニール(FLA)を用いたFinFETのための共形SDEドーピング【Powered by NICT】
Conformal SDE doping for FinFETs using an arsenic-doped Sol-Gel Coating (SGC) and Flash Lamp Annealing (FLA)
著者 (5件):
Fuse Kazuhiko
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd., 480-1 Takamiya-cho, Hikone, Shiga, 522-0292 Japan)
,
Tanimura Hideaki
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd., 480-1 Takamiya-cho, Hikone, Shiga, 522-0292 Japan)
,
Aoyama Takayuki
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd., 480-1 Takamiya-cho, Hikone, Shiga, 522-0292 Japan)
,
Kato Shinichi
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd., 480-1 Takamiya-cho, Hikone, Shiga, 522-0292 Japan)
,
Kobayashi Ippei
(SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd., 480-1 Takamiya-cho, Hikone, Shiga, 522-0292 Japan)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
IWJT
ページ:
66-68
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)