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文献
J-GLOBAL ID：201702236282382400
整理番号：17A1370570
As-Teカルコゲナイド薄膜の特性にプラズマ支援化学気相蒸着パラメータが及ぼす影響
Influence of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Parameters on Characteristics of As-Te Chalcogenide Films
MOCHALOV Leonid
(Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS)
,
MOCHALOV Leonid
(Nizhny Novgorod State Technical Univ. n.a. R.E. Alekseev, Nizhny Novgorod, RUS)
,
NEZHDANOV Aleksey
(Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS)
,
KUDRYASHOV Mikhail
(Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS)
,
LOGUNOV Alexandr
(Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS)
,
STRIKOVSKIY Askold
(Inst. for Applied Physics, Russian Acad. of Sci., Nizhny Novgorod, RUS)
,
GUSHCHIN Mikhail
(Inst. for Applied Physics, Russian Acad. of Sci., Nizhny Novgorod, RUS)
,
CHIDICHIMO Giuseppe
(Univ. Calabria, Rende (CS), ITA)
,
DE FILPO Giovanni
(Univ. Calabria, Rende (CS), ITA)
,
MASHIN Aleksandr
(Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS)
資料名：
Plasma Chemistry and Plasma Processing
(Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 37 号： 5 ページ： 1417-1429 発行年： 2017年09月
JST資料番号： H0836A ISSN： 0272-4324 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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