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文献
J-GLOBAL ID：201702236555740710
整理番号：17A0364773
低コストレーザ印刷可能なフォトマスク:一段階フォトレジストフリー,完全溶液処理した高悪性度フォトリソグラフィーマスク【Powered by NICT】
Low-cost laser printable photomask: One-step, photoresist-free, fully solution processed high-grade photolithography mask
Yun Jinho
(Department of Mechanical Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, Daejeon 305-701, Republic of Korea)
,
Kim Jongsu
(Mask Development Team, Samsung Electronics Co. Ltd, Hwaseong 445-701, Republic of Korea)
,
Yang Minyang
(Department of Mechanical Engineering, Korea Advanced Institute of Science and Technology, Daejeon 305-701, Republic of Korea)
,
Kang Bongchul
(Department of Mechanical System Engineering, Kumoh National Institute of Technology, Gumi 730-701, Republic of Korea)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 394 ページ： 466-471 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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