文献
J-GLOBAL ID:201702236684271573
整理番号:17A1810409
低温大気圧プラズマジェットで製作した有機シリコン膜の表面特性評価
Surface characterization of organosilicon films by low-temperature atmospheric-pressure plasma jet
著者 (5件):
WU Shin-Yi
(Yuan Ze Univ., Chungli, TWN)
,
TSENG Yu-Chien
(Yuan Ze Univ., Chungli, TWN)
,
LI Hsiao-Ling
(Yuan Ze Univ., Chungli, TWN)
,
LU Hsueh-Ning
(Yuan Ze Univ., Chungli, TWN)
,
HUANG Chun
(Yuan Ze Univ., Chungli, TWN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
56
号:
6S2
ページ:
06HE04.1-06HE04.6
発行年:
2017年06月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)